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dissipador de calor resfriamento nitreto de silício substrato cerâmico bolacha
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    Tipo de pagamento: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
    Incoterm: FOB
    Quantidade de pedido mínimo: 1 Piece/Pieces
    Tempo de entrega: 15 dias

Informação básica

Modelo: Si3N4 116

Tipo: Placa

Material: Argila, Alumina Ceramic

Estilo: Ocidental

Uso: Casamento, Presente Empresarial, Uso diário, Decoração de jardim, Decoração do lar

Característica: chinês

Em processamento: Casting

Cor: Branco

Forma: Volta

Era: Moderno

Decoração de superfície: Glazed

Color: White/Ivory

Size: Customized

Application: Machinery, Industry, Medical, Aerospace Etc.

Additional Info

Pacote: Personalizado

marca: Difícil

transporte: Ocean,Land,Air

Lugar de origem: Guangdong, China

Habilidade da fonte: 1,000,000 pcs/Month

Certificados : SGS

porta: Shenzhen

Descrição do produto

dissipador de calor resfriamento nitreto de silício substrato cerâmico bolacha

A reputação depende da qualidade, a qualidade vem do Hard!


Nitreto de silício cerâmico:

O filme anodizado é composto de duas camadas, e a camada externa espessa porosa é crescida em uma camada interna densa com propriedades dielétricas, e a última é chamada camada de barreira (também chamada camada ativa). A observação por microscopia eletrônica revelou que quase todas as faces longitudinais e laterais da camada de filme exibiam orifícios tubulares perpendiculares à superfície do metal, que penetravam na camada externa do filme até a camada de barreira entre o filme de óxido e a interface do metal. A alumina porosa é cercada por alumina densa para formar um corpo hexagonal de favo de mel chamado célula unitária, e toda a camada de filme é composta por uma infinidade de células unitárias. A camada de barreira é composta por óxido de alumínio anidro, fino e denso, possui alta dureza e impede a passagem de corrente elétrica. A camada barreira tem uma espessura de cerca de 0,03-0,05 μm, que é de 0,5% a 2,0% após o filme total. A camada externa porosa do filme de óxido é composta principalmente de alumina amorfa e uma pequena quantidade de alumina hidratada e contém ainda um cátion do eletrólito. Quando o eletrólito é ácido sulfúrico, o teor de sulfato na camada de filme é normalmente de 13% a 17%. A maioria das excelentes propriedades do filme de óxido é determinada pela espessura e porosidade da camada externa porosa e todas estão intimamente relacionadas à condição de anodização. A anodização é dividida em formas atuais: anodização por corrente direta, anodização por corrente alternada e anodização por corrente de pulso. Segundo o eletrólito, há a oxidação anódica natural do ácido sulfúrico, ácido oxálico, ácido crômico, ácido misto e ácido sulfoorganico como solução principal. De acordo com a camada de filme, há anodização, como um filme comum, um filme rígido (filme espesso), um filme de porcelana, uma camada de modificação brilhante e uma camada de barreira para a ação de semicondutores. Os métodos de anodização comuns e as condições do processo para alumínio e ligas de alumínio são mostrados na Tabela 5. Entre eles, a aplicação de anodização com ácido sulfúrico por corrente contínua é comum.
Si3N4 chip

propriedades :

Alta dureza, alta resistência, resistência ao desgaste, resistência à corrosão, alta temperatura (1200 ° ), boa difusividade térmica, boa resistência ao choque térmico (evite que a temperatura mude rapidamente), boa isolatividade, baixa densidade. As propriedades abrangentes são melhores na maioria das estruturas cerâmicas.


Folha de dados ↓

Cor: preto cinza
Densidade: > 3.2g / cm3
Dureza: HRA90
Dureza Vickers (Hv50): > 1550 HV0.5
Módulo de elasticidade: 290Gpa
Força Flexural: > 600Mpa
Força compressiva: 2500Mpa
Módulo de elasticidade (25 ° C): 65Gpa
Resistência à fratura: > 6.0 Mpam1 / 2
Temperatura máxima de uso: 1200 ° C
Condutividade térmica: 15-20 W (mK)
Coeficiente de expansão térmica: > 3,1 10-6 / ° C
Resistência ao choque térmico: 500 △ T ° C
Capacidade térmica especial: 700 KJ / kg.K
Resistência dielétrica: 1 KV / mm
Constante dielétrica: er
Resistividade de volume (20 ° C): 1,0 * 10 (12) Ω.cm

Indústria de aplicação :

Máquinas, eletrônicos, semicondutores, produtos químicos, petróleo, cheiravam.


Aplicação específica:

Eixo de soldagem, substrato eletrônico, êmbolo, bico, guia de slides, peças a diesel, moldagem de metal, rodas de eixo etc.


Porque escolher-nos?
1.12 anos de produção profissional fábrica de cerâmica industrial
Produtos 2.Highquality com preço baixo
Peças 3.High precisão com tolerância mais baixa
Tempo 4.Short para a produção
5.Tem um grupo de equipe de P&D experiente, profissional e eficiente
6.Tem uma boa reputação na China e no exterior.

7. MOQ não é limitado, pequena quantidade é bem-vinda.

Equipe 8.Vigorous e bom serviço pós-venda


Show de produtos

silicon nitride



Manufacturing Process


Perguntas frequentes

Q: você está negociando empresa ou fabricante?
A: Nós somos fábrica.

Q: quanto tempo é o seu tempo de entrega?
A: Geralmente é de 5 a 10 dias se os bens estiverem em estoque. ou é 15-30 dias se os bens não estão em estoque, é de acordo com a quantidade.

Q: você fornece amostras? é grátis ou extra?
A: Sim, nós poderíamos oferecer a amostra gratuitamente, mas não pagamos o custo do frete.
Q: Quais são os seus termos de pagamento?

A: Pagamento <= 1000 USD, 100% adiantado. Pagamento> = 1000 USD, 50% T / T adiantado, saldo antes da expedição.

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