eixo isolado em cerâmica de alumina Al2O3 personalizado
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Cerâmica de alumina :
A cerâmica de alumina é um processo no qual um ânodo é colocado em uma solução eletrolítica e um filme de óxido de alumínio é formado na superfície por eletrólise, chamada de tratamento de anodização de uma placa de alumínio. O cátodo no dispositivo é um material com alta estabilidade química em uma solução eletrolítica, como chumbo, aço inoxidável, alumínio, etc. O princípio da anodização do alumínio é essencialmente o princípio da eletrólise da água. Quando a corrente passa, o hidrogênio evolui no cátodo; no ânodo, o oxigênio evoluído não é apenas oxigênio molecular, mas também oxigênio atômico. (O) e oxigênio iônico, geralmente expresso como oxigênio molecular na reação. O alumínio como ânodo é oxidado pelo oxigênio depositado sobre ele para formar um filme de óxido de alumínio anidro, e o oxigênio gerado nem sempre atua sobre o alumínio, e parte dele está em estado gasoso. Forma de precipitação.
Seleção da solução eletrolítica de oxidação para a folha de alumina: Um pré-requisito para o crescimento do filme anodizado é que o eletrólito tenha um efeito de dissolução no filme de óxido. No entanto, isso não significa que a anodização possa gerar um filme de óxido ou gerar em todos os eletrólitos nos quais existe dissolução. O filme de óxido tem as mesmas propriedades.
propriedades : Alta dureza, alta resistência, resistência ao desgaste, resistência à corrosão, alta temperatura (1600 ° ), boa difusividade térmica, boa isolatividade , baixo custo etc.
Folha de dados ↓
Cor: Branco / Marfim Densidade: 3.9g / cm3 Conteúdo de alumina: 96% 99% 99,5% Permeabilidade ao gás: 0 Absorção de água: 0 Dureza do MONS: 82 Dureza Vickers (Hv50): 15,7 (1600) Gpa (Kg / mm²) Resistência à flexão (20 ° C): 330Mpa Resistência à compressão (20 ° C): 2000Mpa Resistência à Fratura (20 ° C): 4 MPam1 / 2 Condutividade térmica (20 ° C): 27,5W (mK) Coeficiente de expansão térmica: 7.6 10-6 / ° C Resistência a Choques Térmicos: 200 △ T ° C
Temperatura máxima de uso 1650 ° C
Resistência dielétrica: > 10 KV / mm
Constante dielétrica: 9.1er
Ângulo de perda dielétrica (1 MHz): 0.0002-0.0003
Resistividade de volume (20 ° C): > 1014Ω.cm
Indústria de aplicação : máquinas, eletrônicos, produtos químicos, petróleo etc. Aplicação específica: Substrato de cerâmica elétrica, êmbolo, anel de vedação etc.
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